随着纯水设备在光电行业的广泛应用，光电行业一般采用纯水设备类别中的超纯水设备作为纯水制备的选择设备，光电制品行业(如：LCDLED，触摸屏等，光学制品：如光学镜头、光学镜片等系列产品)

　　1.光电行业用水水质要求：

　　这类光电光学产品对水质要求十分高，出水水质一般要求在15兆欧以上。

　　主要用于超声波清洗时的纯水水洗槽，进水方式主要采用水逆流方式。

　　2.用水量：

　　小型生产线如：一条长10米左右的清洗线一般一天用水10T左右。

　　大型生产线：一条50米的清洗线一般一天用水50T左右。

　　3.设备要求：

　　根据用水水质要求,光电光学超纯水设备主要选用以下两种制水流程：

　　1 )采用反渗透+混床+核能级混床I艺

　　2 )采用反渗透+EDI+核能级混床工艺

　　以上两种超纯水设备均能达到出水水质在15兆欧以上。

　　4.设备一般流程：

　　光电光学超纯水设备一般采用下述流程( HDL: RO/RM系列) :

　　原水箱一原水泵一砂滤器碳滤器一软水器 (如果当地水质比较好可以省去)一精密过滤一反渗透一纯水箱一混床增压泵一混合离子交换器一核能级混床一用水点

　　或采用另一种设备配置( HDL-RO/EDI系列) :

　　原水箱一原水泵一砂滤器碳滤器一软水器一精密过滤一双级反渗透一纯水箱一EDI增压泵一EDI系统一超纯水箱一核能级混床一用水点

　　5.设备模块作用：

　　光电光学超纯水设备主要由预处理、主机部分提纯部分构成，各部件用用如下：

　　预处理:原水箱、原水泵、砂滤器、碳滤器、软水器构成了超纯水设备的预处理部分，预处理主要去除水中的泥砂、有机物、悬浮物、余氯并降低水的硬度。确保进水符合反渗透系统的要求。

　　预处理中砂滤器中对砂的要求较高。需要严格按照砂的大小进行装配，特别注意的是表层的砂需在装配0.5左右的细砂，调试在10公分左右。

　　主要机部分主要由精密过滤器与反渗透组成，此部分的主要作用是将自来水处理成小于10us以下的纯水。反渗透需要选用好的膜元件，好的反渗透元件可选用美国陶氏膜元件，可以确保反渗透的使用。初期出水水质可以达到5us以下。

　　提纯部分选用混床系统或EDI系统，将反渗透出水水质在5us以下的水质提纯到15兆欧以上，再通过核能级混床水质可长期稳定。